磁控溅射气体团簇源中团簇形成的DSMC研究 (2011年)

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文件名称：磁控溅射气体团簇源中团簇形成的DSMC研究 (2011年)
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更新时间：2021-05-11 19:52:16
自然科学 论文 利用直接模拟蒙特卡洛方法(DSMC),模拟了磁控溅射气体团簇源中Cu^+(Cu^-)的含量比例不同的条件下,Cu团簇的尺寸分布.模拟结果表明:随着含量比例的增加,团簇的尺寸分布变窄了,不带电的团簇的比例增加,不带电的铜团簇分布的最大值减小,相应的带正电荷和带负电荷团簇的比例减小;相同的含量比例下,带正电的团簇的尺寸分布与带负电荷的团簇的尺寸分布基本相同;初始Cu^-比Cu^+的含量比例大时,输出的主要是带负电荷的团簇,带正电荷和不带电的团簇占很小的比例;Cu^-含量比例的增加,负Cu团簇的尺寸分布减小.