氮化钛阻挡层化学机械抛光液的研究

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文件名称：氮化钛阻挡层化学机械抛光液的研究

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更新时间：2024-05-06 13:14:35

化学机械抛光 阻挡层 氮化钛

为了解决Cu互连线污染和形成高阻铜硅化物以及Cu与SiO2粘附性差等问题，提出增加扩散阻挡层的解决方案。主要关于氮化钛阻挡层化学机械抛光的研究。分析了氮化钛的抛光机理，研究了氧化剂浓度及抛光液的pH对抛光速率的影响，最后配制了适合氮化钛阻挡层的碱性抛光液。