文件名称：电沉积条件对Pd-Co合金微观相结构和耐蚀性的影响 (2007年)
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更新时间：2024-06-12 16:22:38
工程技术 论文
利用 X射线衍射分析和动电位扫描技术等测试手段,考察电沉积工艺条件对 Pd-Co合金镀层微观相结构和耐蚀性的影响。结果表明:钯钴合金沉积层的晶粒尺寸 D (111) 随电流密度、pH值和沉积时间的增加呈先减小后增大的变化趋势,随着镀液温度的升高而不断增大;当电流密度为 1.0 A/dm 2,pH值为 8.3,沉积时间为 30 min 时,其晶粒尺寸最小,为 8.239 6 nm;当电流密度为 1.0 A/dm 2,镀液温度为 35 ℃,pH值为 8.3时,钯钴合金沉积层的耐蚀性最强;而沉积时间对合金耐蚀性