电弧离子镀制备Cr-O-N涂层及生长机理探讨 (2009年)

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文件名称：电弧离子镀制备Cr-O-N涂层及生长机理探讨 (2009年)
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更新时间：2021-04-22 11:06:59
自然科学 论文 为了弄清Q2和N2的流量变化和基体负偏压对涂层微观结构的影响。利用电弧离子镀技术制备了Cr-O-N涂层。对涂层样品进行了X射线衍射分析，扫描电镜和原子力显微镜观察，电子探针成分分析，结果表明Cr-O-N涂层含CrN和Cr2O3相，衍射峰的择优取向、涂层的表面粗糙度、相含量和化学成分与制备过程中的气体流量、基体负偏压等因素密切相关：随着氧流量的增加，涂层的表面粗糙度上升，涂层中氧元素含量和Cr2O3相含量增多；基体负偏压的升高有利于涂层沿CrN（220），Cr2O3（300）面择优生长和涂层的致密性提高。