闪光釉制备工艺对其性能的影响 (2001年)

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文件名称：闪光釉制备工艺对其性能的影响 (2001年)

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更新时间：2024-06-25 06:06:11

自然科学 论文

闪光釉的特征是对入射光有金属镜面般的反射，研究表明，这种反射是由釉中以(200)晶面平行于釉面的 CeO2晶粒造成的，晶粒的取向程度越高反射越强。闪光釉的闪光效果可用晶粒取向度F来表征。制备工艺对F影响强烈。本工艺条件下，CeO2质量分数为6％--8％、熔制温度1 350℃、保温20--30 min。获得F为60％的闪光釉。