交流电沉积条件对沉积Ni纳米线的影响 (2012年)

时间:2024-05-13 01:00:17
【文件属性】:

文件名称:交流电沉积条件对沉积Ni纳米线的影响 (2012年)

文件大小:3.63MB

文件格式:PDF

更新时间:2024-05-13 01:00:17

自然科学 论文

采用恒压40V二次阳极氧化方法制备了阳极氧化铝(AAO)模板,模板的孔径均匀有序。在二次阳极氧化的基础上阶梯降低电压至10V,可有效减薄阻隔层,有利于Ni纳米线的交流电沉积。利用扫描电子显微镜和透射电子显微镜对AAO模板以及Ni纳米线的形貌进行表征。探索了阶梯降低氧化电压、电源滤波以及电沉积频率对沉积Ni纳米线的影响。结果表明,阶梯降低氧化电压、适当的频率以及滤波可以明显提高电沉积效果,得到比较均匀有序的Ni纳米线。


网友评论