氧化钻多孔薄膜的电化学制备及其超电容性能 (2007年)

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文件名称:氧化钻多孔薄膜的电化学制备及其超电容性能 (2007年)

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更新时间:2024-06-17 17:19:52

自然科学 论文

采用恒电流沉积方法,y.} 0. 2 mol/L CoS04 + 1. 5 mol/L H2SO4为电镀液,在阴极大电流密度下,以氢气泡为模板,在石墨基体上成功制备了Coo=-yHz0多孔薄膜.通过扫描电子显微镜、循环伏安法和恒电流充放电技术等对Coo=-yHz0多孔薄膜的形貌及超电容性能进行表征和研究,并对CoOy-yHZ0多孔薄膜的沉积机理进行了探讨.结果表明: CoO. - yHz0薄膜呈纳米/亚微米级的多孔结构,随阴极电流密度的增加,薄膜的孔径增大;同时,膜层具有优异的充放电性能和功率特性,比电容


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