论文研究-基于光掩膜校准的OPC模型匹配 .pdf

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文件名称：论文研究-基于光掩膜校准的OPC模型匹配 .pdf

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更新时间：2022-09-04 06:01:44

光刻

基于光掩膜校准的OPC模型匹配，鲍晔，，基于模型的光学邻近效应修正(Model-based OPC)已成为当今光刻工艺中不可或缺的技术。本文通过研究光掩膜图形与关键尺寸的校准，提出了�