论文研究-基于光掩膜校准的OPC模型匹配 .pdf 时间:2022-09-04 06:01:44 【文件属性】: 文件名称:论文研究-基于光掩膜校准的OPC模型匹配 .pdf 文件大小:698KB 文件格式:PDF 更新时间:2022-09-04 06:01:44 光刻 基于光掩膜校准的OPC模型匹配,鲍晔,,基于模型的光学邻近效应修正(Model-based OPC)已成为当今光刻工艺中不可或缺的技术。本文通过研究光掩膜图形与关键尺寸的校准,提出了� 立即下载