文件名称：甲基丙烯酰氧基三甲氧基硅烷改性SiO2的制备 (2007年)
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更新时间：2024-06-05 04:24:02
工程技术 论文
采用原位一步法制备了表面甲基丙烯酰氧基三甲氧基硅烷(MPS)改性的单分散纳米二氧化硅(SiO2)粒子。该过程将纳米SiO2的缩合形成过程与功能化改性同步进行，并用红外光谱(FTIR)、X射线光电子能谱(XPS)、透射电子显微镜(TEM)、热失重分析(TGA)等测试方法研究了粒子的表面化学结构、形态和分散性以及粒子中 MPs的含量。结果表明，原位一步法制备的MPS改性纳米SiO2粒子粒径约75 nm，基本上呈单分散状态，且含有大量的MPS功能性基团，其表面密度为3．45μmol／m2。