热处理对静电自组装SiO2光学薄膜的影响 (2005年)

时间:2021-05-15 01:31:17
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文件名称:热处理对静电自组装SiO2光学薄膜的影响 (2005年)
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更新时间:2021-05-15 01:31:17
自然科学 论文 以正硅酸乙酯(Ethyl silicate, TEOS)为原料,乙醇为溶剂,NH3·H2O为催化剂,乙醇水溶液为稀释剂制备了胶粒带负电荷、浓度为0.01g/mL的SiO2溶胶,在低折射率(1.45)的玻璃基片上用静电自组装(Electrostatic Self-Assembly Multilayer, ESAM)法制备了带正电荷的聚电解质聚二烯丙基二甲基氯化铵PDDA与SiO2的有机/无机复合薄膜,然后在不同温度下对其进行热处理,分别用A型缩合热分析(TG-DTA)、透射电镜(TEM)、傅立叶红外光谱仪(

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