光刻机技术现状及发展趋势 (2010年)

【文件属性】：
文件名称：光刻机技术现状及发展趋势 (2010年)
文件大小：448KB
文件格式：PDF
更新时间：2021-05-29 09:02:36
工程技术 论文 主要介绍了大规模集成电路制造中光刻工艺的技术现状和发展趋势。首先,在调研光刻机的研发和生产情况的基础上讨论了国内外光刻技术的现状;其次,重点分析了目前用于提高光刻机性能的各种关键技术;最后,简要介绍了下一代光刻技术的研究进展和发展方向。