文件名称：NADH在稀土杂多核氰桥混配物/壳聚糖/玻碳化学修饰电极上的直接电化学氧化 (2013年)
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更新时间：2024-06-16 04:09:51
自然科学 论文
利用电沉积法制备了Yb-In-Co-MoO42-杂多核氰桥混配物预修饰的玻碳电极,并以该修饰电极为基底,在其表面旋涂壳聚糖,成功制备了一种新型的复合修饰电极。采用示差脉冲伏安法研究了NADH在修饰电极上的电催化氧化行为,与裸电极相比,NADH在修饰电极上的氧化峰电位负移了大约20mV,氧化峰电流增加了约10倍,NADH的氧化峰电流与其浓度在4～1000μmol・L-1的较宽范围内呈良好的线性关系;通过计时库仑法测得复合膜修饰电极上NADH电氧化反应的表观异相催化速率常数为9.94×10-3cm・s-1。此