射频溅射ZrO_2薄膜的摩擦学特性 (1992年) 时间:2021-04-25 03:19:47 【文件属性】: 文件名称:射频溅射ZrO_2薄膜的摩擦学特性 (1992年) 文件大小:2.92MB 文件格式:PDF 更新时间:2021-04-25 03:19:47 自然科学 论文 利用磁控射频反应溅射方法制备了ZrO2薄膜。分析了工艺对薄膜结构的影响,结构与摩擦学特征的关系。研究表明,氧分压和基片温度是影响薄膜结构,从而影响其摩擦学特性的关键因素。 立即下载