镓聚焦离子束研磨 Cu薄膜的模拟 (2009年)

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文件名称：镓聚焦离子束研磨 Cu薄膜的模拟 (2009年)
文件大小：445KB
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更新时间：2021-05-18 03:11:21
自然科学 论文 利用 TRIM模拟中的蒙特卡罗方法计算了镓( Gallium)离子在 Cu薄膜上的溅射产额。分析 溅射产额对镓离子的数量、入射离子的能量和离子入射角度的依赖关系。