文件名称:MEMS基本流程YES.docx
文件大小:18KB
文件格式:DOCX
更新时间:2024-01-25 04:43:26
湿法清洗设备
MEMS处理的基本要素之一是能够沉积厚度在1微米到100微米之间的材料薄膜。尽管膜沉积的测量范围从几纳米到一微米,但NEMS的过程是相同的。沉积方法有两种
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湿法清洗设备
MEMS处理的基本要素之一是能够沉积厚度在1微米到100微米之间的材料薄膜。尽管膜沉积的测量范围从几纳米到一微米,但NEMS的过程是相同的。沉积方法有两种