文件名称：通过纳米压印的M形光栅：具有纳米间隙的可复制的大面积高活性等离子表面增强拉曼散射基板。
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更新时间：2024-05-03 16:55:42
研究论文
被纳米间隙隔开的等离子纳米结构能够在纳米级上形成强大的电磁场约束，以增强光物质相互作用，这在许多应用中都非常需要，例如表面增强拉曼散射（SERS）。 提出了一种具有窄V形槽的简单M形纳米光栅。 理论和实验研究均表明，由于由窄V形沟槽形成的纳米间隙中的电场局部化，M光栅表面上的电磁场可以显着增强而不具有此类沟槽的光栅。 开发了一种基于室温纳米压印光刻和各向异性React离子刻蚀的技术来制造此器件，该器件具有成本效益，可靠且适合于制造大面积纳米结构。 为了说明该设备的潜在应用，M光栅被用作探测罗丹明6G分子的SERS衬底。 实验上，平均已经实现了高达5×10 8的SERS增强因子，这证明了M光栅表面上的光-物质相互作用大大超过了传统SERS表面。