聚焦慢速高荷态重离子束微束斑X射线源 (2004年)

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文件名称：聚焦慢速高荷态重离子束微束斑X射线源 (2004年)

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更新时间：2024-06-18 21:58:09

工程技术 论文

利用电子束离子源(EBIS)或者电子束离子陷阱(EBIT )产生的慢速高电荷态重离子束轰击金属靶面,离子束与靶面作用并复合辐射特征X射线；并将高荷态离子束采用离子光学系统会聚为微细束后再与靶面作用,能够辐射出微米甚至亚微米级、纳米级的微束斑X射线。本文介绍这一新型微束斑X射线源的结构、机理及其特性等。