电沉积Cu/Ni多层膜硬度与调制波长关系的研究 (2008年)

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文件名称：电沉积Cu/Ni多层膜硬度与调制波长关系的研究 (2008年)

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更新时间：2024-07-05 22:56:29

自然科学 论文

分别采用双槽法和单槽法制备了不同调制波长的Cu/Ni多层膜,研究了多层膜硬度与调制波长之间的关系。结果表明,当调制波长大于33 nm时．硬度与调制波长的关系符合Hall-Petch关系式；小于33 nm时,偏离了Hall-Petch关系式；等于21 nm时,硬度出现了峰值,约为HV451. 8。