镁合金微弧氧化陶瓷层形成及生长过程 (2014年)

【文件属性】：
文件名称：镁合金微弧氧化陶瓷层形成及生长过程 (2014年)
文件大小：463KB
文件格式：PDF
更新时间：2021-05-13 14:00:29
工程技术 论文 为了探讨通电时间对镁合金微弧氧化陶瓷层形成和生长过程的影响规律，利用高速相机记录微弧放电状态，采用扫描电子显微镜观察膜层表面形貌，借助电化学测试分析膜层表面阻值，根据电压变化曲线计算能量消耗。结果表明：随微弧氧化时间增加，镁合金表面微弧放电斑点由边缘逐渐扩展至整个表面，放电强度增大且数量增多；微弧氧化初期，样品表面有含氧元素的不规则颗粒生成，数量逐渐增多，直至起弧瞬间形成孔径小于0.2 μm的放电微孔；随微弧氧化时间增加镁合金表面阻值增大，直至3.1×104 Ω时出现明显微弧放电现象；镁合金微弧氧化各时间