半导体光刻工艺及光刻机全解析

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文件名称：半导体光刻工艺及光刻机全解析

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更新时间：2024-02-02 04:13:27

半导体光刻工艺及光刻机全解析

光刻工艺是半导*造中最为重要的工艺步骤之一。主要作用是将掩膜板上的图形复制到硅片上，为下一步进行刻蚀或者离子注入工序做好准备。光刻的成本约为整个硅片制造工艺的1/3，耗费时间约占整个硅片工艺的40～60%。