文件名称：原位插层聚合制备硅树脂/蒙脱土纳米复合材料 (2010年)
文件大小：2.21MB
文件格式：PDF
更新时间：2024-06-07 16:44:38
自然科学 论文
用十六烷基三甲基溴化铵（CTAB）做有机化处理剂，通过原位插层聚合法制备了甲基苯基硅树脂/有机蒙脱土（OMMT）纳米复合材料。采用x射线衍射仪（XRD）、扫描电镜（SEM）、透射电镜（TEM）等手段研究了复合材料内部结构，同时测试了复合材料力学性能、耐高温性能及气液阻隔性能。研究结果表明：硅树脂的分子链插层进入了OMMT层问，完全破坏其重复片层结构，形成剥离型纳米复合材料；OMMT质量分数为8%时，复合材料在750℃下仅失重25%，且具有较好的气液阻隔性能；OMMT质量分数为6%时，复合材料拉伸强度为6.