文件名称：含氯低pH值溶液中BDT自组装膜对铜电极的缓蚀行为 (2009年)
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更新时间：2024-05-30 03:02:01
工程技术 论文
采用分子自组装技术，在铜电极表面形成一层1，3?二巯基硫醇（BDT）单分子自组装膜。通过交流阻抗、极化曲线和循环伏安等电化学方法探讨该自组装膜在3%NaCl溶液中对铜电极的缓蚀作用。实验表明：BDT能够有效地组装到铜的表面形成单分子自组装膜，BDT自组装膜能有效地抑制铜基底在3%NaCl腐蚀介质以及酸性NaCl溶液中的腐蚀行为；缓蚀效率随组装时间的延长逐渐升高并趋于稳定，在pH值较低的溶液中仍具有较好的缓蚀效果；当BDT浓度为1.0×10?2mol/L、组装时间为40h时，铜电极的腐蚀电流最小，缓蚀效率最