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文件名称：MOSi2涂层的组织结构与高温抗氧化性能 (2006年)
文件大小：3.77MB
文件格式：PDF
更新时间：2021-05-15 06:43:20
工程技术 论文
采用包渗法在Nb-10W合金基体上制备Mosi:涂层,测试了涂层试样的1600℃静态抗氧化和室温至 1600℃循环抗氧化性能,分析了硅化过程中涂层的形成机理、涂层表面和截面的形貌以及氧化后涂层成分与结构变化。采用包渗法制备的硅化物涂层是通过反应扩散形成的,该涂层为复合结构:MOS12相主体层;以NbSiz相为主、并含少量Nb5S13相的两相过渡区;Nb5Si3相扩散层;该涂层结构表现出良好的高温抗氧化和抗热震性能;Si的扩散是通过空位的反应流动实现的,空位在主体层与两相过渡区界面处聚集成微孔带,氧化后微孔