光刻与刻蚀工艺.ppt

时间:2022-09-09 18:22:10
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文件名称:光刻与刻蚀工艺.ppt

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文件格式:PPT

更新时间:2022-09-09 18:22:10

电子

“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆(或者叫硅片)上盖上事先做好的光刻板,然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质,易于腐蚀。 “刻蚀”是光刻后,用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉(正胶),晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形。然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀,形成半导体器件及其电路。


网友评论

  • 很有用,帮我了解半导*备过程的工艺。谢谢!!! #内容详尽