文件名称:光刻胶的选择 光刻胶包括两种基本的类型:正性光刻和负性光刻
文件大小:119KB
文件格式:DOCX
更新时间:2024-02-02 04:13:58
光刻胶的选择光刻胶包括两种基本
1.清洗硅片 2.预烘和底膜涂覆 3.光刻胶涂覆 4.前烘
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光刻胶的选择光刻胶包括两种基本
1.清洗硅片 2.预烘和底膜涂覆 3.光刻胶涂覆 4.前烘