文件名称:Co-Si合金膜的结构和磁光克尔效应 (2001年)
文件大小:2.69MB
文件格式:PDF
更新时间:2024-05-27 04:37:39
自然科学 论文
用射频磁控溅射在衬底温度(Ts)为400℃和室温(RT)两种情形制备了Co1-xSix(0.0
文件名称:Co-Si合金膜的结构和磁光克尔效应 (2001年)
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自然科学 论文
用射频磁控溅射在衬底温度(Ts)为400℃和室温(RT)两种情形制备了Co1-xSix(0.0