models.molec.uhv_cvd.pdf

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文件名称：models.molec.uhv_cvd.pdf

文件大小：379KB

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更新时间：2023-05-10 04:18:21

comsol UHV/CVD 分子流

化学气相沉积是半导体工业经常使用的工艺，用于在晶片衬底上生长高纯度硅，基于comsol对超高真空化学气相沉积进行模拟，依靠输入流量和压力控制，可得到表面气相分布分数。