文件名称:Untitled.mph
文件大小:3.78MB
文件格式:MPH
更新时间:2023-05-10 04:23:03
comsol UHV/CVD 分子流 APP
化学气相沉积是半导体工业经常使用的工艺,用于在晶片衬底上生长高纯度硅,基于comsol对超高真空化学气相沉积进行模拟,依靠输入流量和压力控制,可得到表面气相分布分数。
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化学气相沉积是半导体工业经常使用的工艺,用于在晶片衬底上生长高纯度硅,基于comsol对超高真空化学气相沉积进行模拟,依靠输入流量和压力控制,可得到表面气相分布分数。