文件名称：论文研究-Simulations and Analysis of the Moving Mask UV Lithography for Thick-photoresist.pdf
文件大小：530KB
文件格式：PDF
更新时间：2022-09-07 16:22:12
UV lithography
厚胶移动掩膜UV光刻模拟，余倩，周再发，基于菲涅耳衍射模型对移动掩膜曝光过程进行模拟，利用掩膜的移动函数计算掩膜移动对曝光的影响，同时考虑UV光在空气/光刻胶界面的
论文研究-Simulations and Analysis of the Moving Mask UV Lithography for Thick-photoresist.pdf
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