【文件属性】：
文件名称：阴极弧离子镀TiAlSiN涂层的微观组织与性能 (2013年)
文件大小：1.22MB
文件格式：PDF
更新时间：2021-05-17 04:21:37
自然科学 论文
采用阴极弧离子镀法在GH4169 Ni基合金表面制备TiAlSiN涂层，通过SEM，EDS，XRD和XPS等手段对TiAlSiN涂层表面-界面形貌、能谱以及物相结合能谱进行测试分析，并对其结合界面化学元素进行线扫描分析，讨论涂层界面结合机理。研究结果表明：TiAlSiN涂层主要成分为Al，Ti，Si和N元素，化学元素分布均匀，表面没有产生富集现象；涂层具有较强的TiSix和SiNx择优取向化合物，为非晶结构；TiAlSiN涂层是由TiN，AlN和Si3N4等物相组成，Si元素以Si3N4非晶相形式包覆在（