白钨矿晶体常见暴露面的表面能及表面形貌 (2013年)

时间:2024-05-12 04:08:30
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文件名称:白钨矿晶体常见暴露面的表面能及表面形貌 (2013年)

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更新时间:2024-05-12 04:08:30

工程技术 论文

采用密度泛函理论 DFT计算白钨矿晶体 5个晶面的表面能,预测白钨矿晶体常见的暴露面。预测分析表明,{112}和{001}解理面及{112}晶面是白钨矿晶体的 3个主要暴露面,与文献报道的及 XRD单晶衍射实验结果一致。较 {001}面方向,沿 {112}面层间更容易产生解理,可能与这两个晶面方向的层间距差异有关。采用 AFM研究 3个常见暴露面的表面形貌。研究表明, {112}解理面最光滑,粗糙度最小;在{001}解理面上高度约 10 nm的台阶依次排列。采用接触角测量的方法研究 3个暴露面的润湿性,并


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