论文研究-晶圆表面形貌对铜电镀工艺的影响和数学预测 .pdf

时间:2022-09-05 06:23:16
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更新时间:2022-09-05 06:23:16

微电子

晶圆表面形貌对铜电镀工艺的影响和数学预测,白英英,张守龙,铜电镀(ECP)技术是半导体铜互连工艺中相当重要的一环。在电解槽中各种添加剂的作用下,铜能以一种


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