文件名称:论文研究-晶圆表面形貌对铜电镀工艺的影响和数学预测 .pdf
文件大小:911KB
文件格式:PDF
更新时间:2022-09-05 06:23:16
微电子
晶圆表面形貌对铜电镀工艺的影响和数学预测,白英英,张守龙,铜电镀(ECP)技术是半导体铜互连工艺中相当重要的一环。在电解槽中各种添加剂的作用下,铜能以一种
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晶圆表面形貌对铜电镀工艺的影响和数学预测,白英英,张守龙,铜电镀(ECP)技术是半导体铜互连工艺中相当重要的一环。在电解槽中各种添加剂的作用下,铜能以一种