文件名称:集成电路版图IC-layout
文件大小:99KB
文件格式:DOC
更新时间:2013-07-08 13:00:05
集成电路设计 IC 版图设计
CMOS工艺可分为P阱CMOS、N阱CMOS和双阱CMOS。以NWELL工艺为例说明CMOS中常用有源及无源器件的器件结构、工作原理、特性参数等。建议在此之前先了解CMOS的基本工艺。
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集成电路设计 IC 版图设计
CMOS工艺可分为P阱CMOS、N阱CMOS和双阱CMOS。以NWELL工艺为例说明CMOS中常用有源及无源器件的器件结构、工作原理、特性参数等。建议在此之前先了解CMOS的基本工艺。