新型GaAs基近红外波段半导体光电材料及器件研究

时间:2024-07-27 03:10:41
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文件名称:新型GaAs基近红外波段半导体光电材料及器件研究

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更新时间:2024-07-27 03:10:41

GaAs红外

本工作主要研究新型GaAs基 GaInAs、gaInNAs、GaAssb/In gaAs等1.31-1.55微米长波长半导体光电材料物理,及其分子束外延生长实验,主要包含以下内容   1.GaInNAsSb化合物半导体以及 GaAs/GaInNAsSb超晶格的光电子性能理论分析用 Keating的价力场(Valence force field)模型和蒙特卡罗方法计算了 GaAs/GaInnassb超晶格中键的分布、原子的精确位置以及应变。用折叠谱法(Folded spectrum method)结合 Williamson经验赝势法计算了 GaAs/GalnNAsSb超晶格应变条件下的电子结构。讨论了N和Sb原子以及超晶格单分子层数对电子结构的影响。发现导带底电子态在N原子周围的局域化减小了光跃迁矩阵元,从而影响了该超晶格的发光性能。计算并讨论了超晶格的电子和空穴的有效质量   2.高n组份n、Gal,As/GaAs量子阱的分子束外延生长及其光电子性能系统地研究了高ln组份 in GalAs/GaAs量子阱,通过优化lnGa1 As/Gaas量子阱的分子束外延(MBE)生长条件,使得In4Ga0 ssaS/GaAs量子阱的临界厚度达到了7nm,超过了 Matthewand Blakeslee模型得出的理论值。用X射线摇摆曲线研究了高n组份下高应变In,GaLAs(aAs量子阱的品格质量。用PL谱研究了量子阱的发光性能。首次生长出发光波长达到1.254pm的高质量量子阱。并用 Matthews and Blakeslee模型探讨了量子阱在不同生长条件下的驰豫机理   3.高反带中心在1310和1550mm的p和n型掺杂的 GaAs/AlGaAs分布式布拉格反射镜ODBR)的优化和仿真


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