论文研究-MOCVD反应器中瞬态热流场的数值研究 .pdf

时间:2022-09-14 00:24:15
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更新时间:2022-09-14 00:24:15

晶体外延生长

MOCVD反应器中瞬态热流场的数值研究 ,钟树泉,任晓敏,利用二维动力学模型,通过优化计算MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition) 反应器的进气流量、操作压力、衬底温度、基座旋转等几个重要


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