氦等离子体前处理对多晶硅薄膜性能的影响 (2013年)

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文件名称：氦等离子体前处理对多晶硅薄膜性能的影响 (2013年)
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更新时间：2021-05-08 02:19:56
工程技术 论文 采用微波电子回旋共振等离子体增强磁控溅射(microwave electron cyclotron resonance plasma- enhanced magnetron sputtering，ECR-PEMS)和电子回旋共振等离子体辅助化学气相沉积(microwave electron cyclotron resonance chemical vapor deposition，ECR-CVD)技术，分别在单晶硅片(100)基底上低温制备了多晶硅薄膜．采用拉曼光谱仪、X射线衍射仪以及原子力显微镜对薄膜微